Tag: Ion PGM

技術講習会(半導体シーケンサ)

ライフテクノロジーズジャパン社 半導体シーケンサ(Ion Personal Genome Machine)のセミナーの開催についてお知らせします。 日時:2011年7月8日(金曜) 13時30分〜15時30分 内容:・Ion PGMの原理    ・解析の実際    ・次世代シーケンサ(ギガシーケンス)との相違    ・遺伝子実験のワークフロー    ・質疑応答 場所:遺伝子実験施設 セミナー室(1F) 担当:ライフテクノロジーズジャパン株式会社    テクニカルサポート部門 板倉文子 概要 Ion Personal Genome Machine(Ion PGM)の技術は、DNA複製時に放出される水素イオンを半導体センサーでダイレクトかつリアルタイムに検出し、大規模に並列解析を行う次世代シーケンサです。水素イオンを検出するという、最もシンプルな塩基配列決定法であるため、蛍光標識、光学系、スキャニングを必要としません。これにより低コストな遺伝子の網羅的解析が可能となりました。また半導体チップを交換するだけで、目的にあったデーター量を選ぶことができるため多彩なアプリケーションに対応できます。今まで使用されていた方、これから新たに解析をはじめようと考えられている方、是非ご参加ください。 13:30-15:00 「Ion PGMの原理とアプリケーションの紹介」 【内容】次世代シーケンサとは何か、Ion PGMでのシーケンスの原理およびメリット等をご紹介します。サンプルはどのくらい必要かなどの遺伝子実験のワークフローおよびデーターの解析例なども説明します。 15:00-15:30 「質疑応答ならびに個別相談会」 【内容】全体での質疑応答終了後に参加者の皆さまからの質問に関してテクニカルサポートの担当者が個別に対応いたします。