トランスフェクション、エレクトロポレーション（絶縁破壊）、細胞融合を利用した遺伝子導入装置
【仕様】
機種 ：T-820M
メーカー ：BTX（代理店 メイワフォーシス株式会社）
電源 ：105～125V
エレクトロポレーション電圧 ：
［LOW VM］50～500V peak ［HIGH VM］100～3,000V peak
パルス幅 ：［LOW VM］0.3～99msec ［HIGH VM］5～99msec
パルスの回数 ：1～99
インターバル ：1sec
付属機器類 ：MVC540R（パルスモニター）
【設置場所】
高度遺伝子改変室（4階 401号室）
【概要】
・化学的に敏感な細胞または不応性細胞に対して、クローン遺伝子を効率的に導入可能
・多くの哺乳動物のセルラインに外因性DNAを導入するための単純かつ効率的な手法
【利用例】
・動物細胞、植物細胞、酵母、バクテリア、大腸菌
【補足】
・文献において良好な結果を導くために必要なエレクトロポレーション電場強度は以下の条件とされています。
［植物細胞］ 1～3kV/cm
［哺乳動物細胞］ 4～8kV/cm
［バクテリア］ 9～25kV/cm
・施設にてディスポキュベットを1本より購入可能です。価格については管理室までお問い合わせ下さい。
Model No.610 Gap Cuvette（1mm）
Model No.620 Gap Cuvette（2mm）
Model No.643 4mm（80-800μL）
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